產品概述 Product Overview

FERMI-RFPS-200是費勉儀器公司最新生產的一種高效射頻等離子體源，通過線圈式結構，能在真空腔體內激發產生等離子體，激勵氣體種類包括但不限于H₂、N₂、O₂、稀有氣體等，具有更好的穩定性以及更精確的操控性，廣泛應用于分子束外延系統（MBE）中氮化物生長、氮原子注入和摻雜、氧化物生長、氧原子的注入和摻雜、氫化物生長以及氫原子表面清洗等。

規格說明 Specification

● 高效穩定的氮化物、氧化物、氫化物生長

● 精確的操控性能，簡單易用

● 可以根據需求更換引出端口

● 內有原子篩選孔,使離子體盡可能少的到達襯底

● 適用于MBE、真空解理鍍膜、氫原子襯底清洗等系統

類型	FERMI-RFPS-200
真空兼容性	CF100標準法蘭
氣體負載	N2，H2	O2,H2
離子產生區材料	PBN	石英
冷卻方式	水冷
進氣裝置	VCR1/4接頭
真空工作距離	100-200mm
射頻匹配器	13.56MHz/500瓦
水冷流速	>1 L/min
手動、自動射頻匹配器	可選
等離子體光譜檢測	可選

測試曲線圖 Test Curve

原子氫襯底脫氧處理及外延測試：

MBE生長用射頻離子源實際案例：真空解理鍍膜系統

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